甚至还有各类军火武器及各种科技资料等等都有。

安云兮：“……”

不是，这些军火和武器她要拿来干嘛？

不过这些科技资料安云兮倒是挺感兴趣的。

安云兮大致看了一下，科技资料中有很多是比现实世界里的先进很多，但总体没有超过这个时代太多。

看来系统功能虽然强大，但总体还是有所限制的。

安云兮一页一页地翻看科技板块可以兑换的资料。

看到1纳米光刻机，05纳米光刻机甚至还有01纳米光刻机技术的时候，安云兮激动了。

能不激动吗？

华国在芯片的核心技术上被扼住了喉咙多少年了。

若是能将这些技术资料兑换出来，那对华国来说，得有多么大的帮助啊。

据她了解，目前，全球最先进的光刻机是荷兰asl公司的euv（极紫外）光刻机，它可以实现7n甚至5n的工艺，已经被台积电、三星等半导体巨头广泛使用。

然而，随着芯片的尺寸越来越小，euv光刻机也面临着极限的挑战。

一方面，euv光刻机需要使用特殊的光源和光学系统，成本非常高昂，而且维护困难，容易出现故障。

另一方面，euv光刻机在刻画超细的图案时，也会受到量子效应的影响，导致图案的边缘模糊，影响芯片的性能和稳定性。

因此，许多专家和企业都在寻求突破euv光刻机的瓶颈，开发更先进的光刻技术。

此外，佳能公司早在2004年就开始进入纳米压印光刻领域，但由于技术难度大，市场需求低，一直没有取得突破。

直到近年来，随着半导体和人工智能等领域的发展，佳能公司的研发才开始有所进展。